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1、產(chǎn)品概述

      半導(dǎo)體晶圓腐蝕清洗系統(tǒng)采用半導(dǎo)體工藝要求的材料和工藝流程，可設(shè)計腐蝕槽清洗槽等工藝組合，

通討PLC加觸摸屏組合設(shè)計控制，可對硅晶圓實現(xiàn)需要的硅腐蝕HF處理沖水超聲吹干等工藝過程。

2、性能參數(shù)

• 裝片能力: 5時，6時，8時，150-300微米

• 清洗能力: 2cassette/Batch，25Pcs/cassette

• 主要材質(zhì): 聚丙烯磁白PP:阻燃聚氬乙烯PVC: SUS304不銹鋼，透明抗靜電PVC5T

• 防漏盤: 聚丙烯磁白 PP 板材

• 排風(fēng)通道: 內(nèi)設(shè)有風(fēng)量導(dǎo)流板:控制方式:PLC+觸摸屏控制

• 工藝溫度: 30~80℃（可調(diào)）

• 溫控精度: +0.5℃

• 工藝槽數(shù): 2-5個可選

• 工藝配方: 預(yù)先設(shè)置自動執(zhí)行

• 廢液回收: 機臺后方專用管道

• 設(shè)備維護: 狀態(tài)監(jiān)測手動點檢

• 工作環(huán)境: 千級凈化車間

3、相關(guān)服務(wù)

支持客戶定制服務(wù)，提供顧客標(biāo)準(zhǔn)化工藝。