???????????????????沈陽北博電子科技有限公司
SHENYANG BEIBO ELECTRONIC TECHNOLOGY CO.,LTD.
??五十年代:奠基
1952年,成立電子計算機科研小組,由中科院數(shù)學所所長華羅庚負責;
1956年,半導(dǎo)體技術(shù)作為四大緊急措施之一寫入中科院的學部委員們編撰德《十二年科學技術(shù)發(fā)展遠景規(guī)劃》,獲得批示;
??六七十年代:前進
1966年,中科院下屬109廠與上海光學儀器廠協(xié)作,研制成功我國第一臺65型接觸式光刻機;
1970年代,中國科學院開始研制計算機輔助光刻掩模工藝;
1971年,清華大學精密儀器系教師徐端頤,回京負責新一代光刻機的研發(fā);
1972年,武漢無線電元件三廠編寫《光刻掩模版的制造》;
1977年,光刻機座談會在江蘇吳縣召開;
1977年,中國第一臺GK-3型半自動接觸式光刻機誕生,與國際水平有一定差距;
1978年,中科院1445所升級開發(fā)GK-4,仍為接觸式,中美技術(shù)差距20年;
??八十年代前期:僅次美國,比肩日韓
1980年,徐端頤及其團隊研制第四代分步式投影光刻機獲得成功,光刻精度達到3微米,接近國際主流水平;
1981年,中國科學院半導(dǎo)體所研制成功JK-1型半自動接近式光刻機;
1982年,科學院109廠的KHA-75-1光刻機,估計跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年差距;
1984年,“撥改貸”,眾多半導(dǎo)體項目無奈停止;
1985年,中電科45所研制出分步投影式光刻機,通過電子部技術(shù)鑒定,認為達到1978年美國GCA公司推出的4800DSW水平。這應(yīng)當是中國第一臺分步投影式光刻機,中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年。后來的光刻機巨頭ASML公司剛剛誕生。
(國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)薄弱,雖有光刻機,沒有市場,也就沒有商業(yè)化,機器都只是實驗室擺放,相關(guān)研究成果及論文,在通過專家評審后即被束之高閣,之后與國外差距越來越大?!凹埳险劚?,應(yīng)該是對這個階段中國光刻機技術(shù)的最好注解。)
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